超細研磨機，超細研磨設備，超細膠磨機，高剪切研磨機，高剪切膠磨機
超細研磨設備可廣泛應用于電池材料、電子材料、陶瓷鈾料、顏料、bai炭黑、鈦bai粉、顏料、金屬粉末、機械合金、金屬氧化物、石墨、化工等領域。
在高檔鈦bai粉（白炭黑）的生產過程中，超細研磨是一個*的工藝。但是這并不是說研磨設備是高檔鈦bai粉（白炭黑）的“”，其實銳鈦型鈦bai粉更需要超細研磨，因為銳鈦型鈦bai粉多用于化纖領域，而化纖產品對鈦bai粉粒度的要求更高，所以銳鈦型產品需要磨得更細。隨著化纖業的不斷擴張，高品質銳鈦型鈦bai粉的消費潛力正在不斷增長，利潤空間相當可觀。研磨屬于鈦bai粉生產的后處理工序，直接影響到產品的分散性、遮蓋率、純度等性能。
CMO2000系列錐體磨（膠體磨），它的設計使其功能在原有的CM2000系列膠體磨的基礎上又進了一步。由于這項創新，CMO2000系列錐體磨（膠體磨）能夠濕磨和研磨，產生的顆粒粒徑甚至比膠體磨CM2000還小。錐體磨（膠體磨）的研磨間隙可以無級調節，從而可以得到精確的研磨參數。 錐體磨（膠體磨）的研磨頭的表面涂上了一層極其堅硬的硬質材料，從而使其表面具有非常粗糙的紋理。這種硬質材料是由碳化物、陶瓷等高質量物質構成，并且具有不同的粒徑。
濕法研磨設備是將物料分散在【液體】中研磨，研磨后的產品一般需要干燥工序;干法研磨設備是將物料在【自然干狀態下】或者【氣體】中研磨，研磨后產品不需要干燥工序。干法研磨設備zui細可以將物料研磨到1-3微米，而濕法研磨設備zui細可以研磨到100納米或更細。
超細研磨機，錐型刀具間隙可調節至zui小，來減小顆粒粒徑，從而可獲得更細的懸浮液。錐體磨轉子表面含高硬質材料，如金屬碳化物或不同顆粒的陶瓷，具有*的粉碎效果。在強剪切區域內亦可受到保護，防止被磨損或腐蝕。根據物料粘度情況的不同，可以靈活調節間隙，保證處理效果的均一。
傳統在加工超細、超硬、超純物料時碰到的三個技術難題為：
一、磨不細：是傳統zui難解決的問題之一。因為，在介質磨設備中，要將物料破碎到更細，必須在使用更小的研磨介質，而小尺寸介質的質量也小。要提高介質的動能，只有增大其運動速度，由于受漿料阻尼及介質加速距離小的限制，介質很難在密閉容器中獲得大的運動速度。
二、分不離：是傳統又一難題。一般所研磨產品zui終平均細度約為所用介質尺寸的1/1000。假如研磨產品細度為100nm，應該使用介質的尺寸為0.1mm。 如此小尺寸介質與納米尺寸物料的機械分離(通過縫隙網)是十分困難的。
三、純不夠：在特定情況下產品純度是判定產品質量合格的*標準。否則，即使細度達到了，介質與物料也分離了，但被污染了的物料還是屬于廢品。
基于以上技術難題，我公司的CMO錐體磨研磨機理非同于介質研磨設備，*可以避免以上問題。
錐體磨 | 流量 | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/輸出連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
CMO 2000/4 | 50 | 9,000 | 23 | 1.5 | DN25/DN15 |
CMO 2000/5 | 200 | 6,000 | 23 | 5.5 | DN40/DN32 |
CMO 2000/10 | 500 | 4,200 | 23 | 15 | DN50/DN50 |
CMO 2000/20 | 1500 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMO 2000/30 | 3000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMO 2000/50 | 6000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
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